LITHOGRAPHY LÀ GÌ

     

Là tập đúng theo các quy trình quang hoá nhằm mục đích tạo ra các cụ thể trên mặt phẳng phiến silicon (wafer) có kích thước và hình dạng hệt như thiết kế. Để có tác dụng được điều này rất cần được có những bộ mặt nạ (mask), hóa học cảm quang đãng (photoresist) mối cung cấp sáng UV cùng dung dịch hiện hình (developer). Mặt nạ thường là 1 trong tấm thuỷ tinh hữu cơ được tủ một màng crôm trên đó khắc hoạ những bỏ ra tiết tương xứng với xây cất của cảm ứng hoặc mạch tích đúng theo (IC).

Bạn đang xem: Lithography là gì


*

2.Exposure to lớn UV – Phơi sáng dưới tia rất tím• các phần của wafer được chọn để phơi sáng (exposure) bằng cách cẩn thận chỉnh sửa một phương diện nạ (mask) giữa một nguồn tia nắng cực tím (ultraviolet-UV light source) và wafer.• vào các quanh vùng trong xuyên suốt của phương diện nạ, ánh sáng trải qua và phơi chiếu lớp photoresist.Có 2 loại mực. Positive với negative photoresist.• negative – Tia UV tạo nên negative resist bị polime hóa và khó khăn hòa tung hơn.• positive – Tia UV làm đổi khác cấu trúc chất hóa học của resist để nó trở phải dễ hài hòa hơn vào thuốc hiện ảnh.Hiện tại Positive resists là nhiều loại được áp dụng chiếm ưu ráng hơn. Nhiều loại positive thì phần bị đậy đi sẽ còn lại. Loại negative thì phần bịt đi sẽ bị tẩy mất. Vào khâu này thì độc nhất vô nhị là chất photoresist do nó bao hàm loại solvent gây ra ung thư. Sau khâu này thì photoresist đã cứng lại hoặc không cứng lại tùy thuộc vào positive tuyệt negative photoresist.

Xem thêm: Vb.Net Là Gì - Ngôn Ngữ Visual Basic Là Gì


*

Mask:Mặt nạ là 1 trong những tấm kính vuông với nhũ tương màng sắt kẽm kim loại có hoa văn thường là màng crôm tại một bên. Một wafer cần rất nhiều mask, từ hàng trăm ngàn mask trở lên với các loại IC, hoặc một vài ba mask cùng với transistor. Từng một cỗ mask thì thường là gồm gồm vài chục mang lại vài trăm hình của một die (1 die sẽ là một trong những IC). Mặt nạ được chỉnh sửa với wafer, thế nào cho mẫu hình vẽ hoàn toàn có thể được chuyển lên mặt phẳng wafer. Mỗi khía cạnh nạ yêu cầu được căn chỉnh với tấm nghỉ ngơi phía trước. Photoresist được phơi sáng (chụp) trải qua các mẫu mã hình trên mặt nạ với một tia rất tím cường độ cao.

Xem thêm: Cách Nấu Bột An Dặm Cho Be 6 Tháng Tuổi Dinh Dưỡng, Cách Nấu Bột Ăn Dặm Cho Bé 4

• tất cả ba phương thức exposure chính: contact-tiếp xúc, proximity-lân cận với projection-chiếu.• Ưu điểm bao gồm của cách thức chiếu là phương diện nạ rất có thể lớn hơn một chút so với mẫu cuối cùng và trải qua các thao tác quang học và cơ học, độ chính xác/độ phân giải xuất sắc hơn rất có thể được bỏ lên trên trên photoresist – Direct Wafer Stepping (DWS)


Danh mục rất có thể Bạn không biết Thẻ at là gì mt là gì,axit là gì bazơ là gì muối bột là gì,bid là gì ask là gì,biến là gì hằng là gì,bội là gì cầu là gì,lithography có nghĩa là gì,lithography dịch là gì,lithography là gì,lithography tức thị gì,thích là gì yêu thương là gì yêu đương là gì Điều hướng bài bác viết

Viết một comment Hủy

Bình luận

TênThư năng lượng điện tửTrang web

lưu tên của tôi, email, và website trong trình coi ngó này mang lại lần phản hồi kế tiếp của tôi.